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• daniel jauregui

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RECUBRIMIENTOS POR CONVERSIÓN El recubrimiento por conversión son una serie de procesos en los que se forma una película delgada de óxido, fosfato o cromato sobre una superficie metálica mediante reacción química o electroquímica, los metales comunes tratados mediante recubrimiento por conversión son el acero (incluido el acero galvanizado), el zinc y el aluminio, los procesos de recubrimiento por conversión se dividen en dos categorías; Tratamientos químicos y Anodizado. Métodos de recubrimiento por conversión  

La inmersión La aspersión

Principales razones para usar procesos de recubrimiento por conversión 1. 2. 3. 4.

Protección contra la corrosión Preparación para pintura Reducción del desgaste Permitir que la superficie contenga mejores lubricantes para procesos de formado metálico. 5. Aumentar la resistencia eléctrica de la superficie. 6. Acabado decorativo 7. Identificación de piezas Recubrimientos por conversión química Estos procesos operan al exponer el metal base a ciertos productos químicos que forman películas superficiales delgadas y no metálicas El propósito de estos tratamientos de conversión química es conseguir este último efecto. Los dos procesos principales son recubrimientos con fosfatos y cromatos. Recubrimiento con fosfato: Transforma la superficie del metal base en una película protectora de fosfato mediante la exposición a soluciones de ciertas sales de fosfatos (Zn, Mg y Ca) junto con ácido fosfórico diluido (H3PO4) Recubrimiento con cromato: convierte el metal base en diversas formas de películas de cromatos, mediante soluciones acuosas de ácido crómico, sales de cromatos y otros productos químicos. Los metales tratados con este método incluyen el aluminio, el cadmio, el cobre, el magnesio y el zinc (y sus aleaciones).

Anodizado

El anodizado es un tratamiento electrolítico que produce una capa de óxido estable sobre una superficie metálica, es comúnmente aplicado en aluminio y magnesio, sin embargo también se usa en zinc, titanio y otros. Se usa principalmente para propósitos decorativos. Deposición física de vapor La deposición física de vapor (PVD) es un grupo de procesos en los cuales se convierte un material en su fase de vapor en una cámara de vacío y se condensa sobre una superficie de sustrato como una película muy delgada, tienen una amplia variedad de materiales de recubrimiento (metales, aleaciones, cerámicos, polímeros) y los sustratos posibles incluyen metales, vidrio y plástico. Los tres tipos principales de la PVD son la evaporación al vacío, bombardeo con partículas y el chapeado iónico. Pasos para procesos de deposición física de vapor 1. síntesis del vapor de recubrimiento 2. transporte del vapor al sustrato 3. condensación de los vapores sobre la superficie del sustrato Evaporación al vacío El material que va a depositarse (fuente), se calienta a una temperatura suficientemente alta para evaporarse (o sublimarse). Dado que el calentamiento se obtiene al vacío, la temperatura requerida para la evaporización es significativamente menor que la temperatura requerida a presión atmosférica normal. Asimismo, la ausencia de aire en la cámara evita la oxidación del material fuente a las temperaturas de calentamiento. Los métodos de vaporización más importantes son el calentamiento por resistencia y el bombardeo con haz de electrones, en las dos técnicas de evaporación, los átomos evaporados dejan la fuente y siguen trayectorias en línea recta hasta que chocan con otras moléculas de gas, por lo que reduce la probabilidad de choques con átomos del vapor de la fuente. Bombardeo con partículas el bombardeo con partículas involucra el bombardeo de material de recubrimiento catódico con los iones de argón, lo que provoca que los átomos de la superficie escapen y se depositen en un sustrato, formando una película delgada sobre la superficie. El sustrato debe colocarse cerca del cátodo y, por lo general, se calienta para mejorar la unión de los átomos del recubrimiento. El bombardeo con partículas puede aplicarse casi a cualquier material, elementos metálicos y no metálicos Chapeado iónico El chapeado iónico usa una combinación de bombardeo con partículas y evaporación al vacío para depositar una película delgada sobre un sustrato, funciona así; el sustrato funciona como cátodo en la pieza superior de la cámara y el material fuente se coloca debajo, se establece un vacío en la

cámara, se inyecta gas argón y se aplica un campo eléctrico para ionizar el gas y establecer un plasma. Esto produce un bombardeo iónico del sustrato, por lo que su superficie se frota hasta una condición de limpieza atómica (esto se refiere como “muy limpio”) Enseguida, el material fuente se calienta lo suficiente para generar vapores de recubrimiento. Las moléculas de vapor pasan a través del plasma y recubren el sustrato.