Previo de Poder Cubriente

PODER CUBRIENTE OBJETIVO: El alumno determinará por diversas fórmulas del Poder Cubriente de diversos baños electrolític

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PODER CUBRIENTE OBJETIVO: El alumno determinará por diversas fórmulas del Poder Cubriente de diversos baños electrolíticos.

FUNDAMENTACIÓN Un requerimiento importante en electrólisis es que el metal depositado sobre un objeto debe ser de un espesor mínimo, pero para objetos de contornos complejos como por ejemplo: hendiduras, esquinas puntiagudas, etc., este requerimiento es difícil de satisfacer.

Si el flujo de corriente para el cátodo depende de la resistencia del electrolito en estas áreas restringidas, sobre ellas se depositará menos metal que en las áreas más accesibles las cuales serán recubiertas más fácilmente.

En ciertas condiciones electrolíticas se pueden obtener depósitos moderadamente uniformes. En estos casos, se dice que los baños electrolíticos tienen un buen "poder cubriente (T.P.). La influencia externa por la polarización de los procesos catódicos sobre el T.P. será demostrada en este experimento.

La celda Haring es usada para en encontrar el valor de Poder Cubriente (T.P.) de un sistema dado. Estas celdas consisten de una caja rectangular acrílica abierta, en las cuales las placas de los cátodos son insertados en cada extremo de la celda. El ánodo es colocado entre los cátodos, tal que L1 = 3 cm, L2 = 15 cm y la relación de las distancias sean L2/L1 = 5:1, es decir, dando el valor de 5 (“L”) lo cual es totalmente arbitrario.

En el experimento, los cátodos son conectados en el polo negativo y el ánodo en el polo positivo de la Fuente de poder.

Las corrientes I1 y I2 se asume que la eficiencia de corriente en los procesos de depósito es la misma para ambos casos C1 y C2, I1/I2 = M1/M2 = M, M1 y M2 son los pesos de las placas depositadas (C1 y C2) y M la relación de masas.

El poder cubriente (T.P.) se puede definirse de muchas maneras: Blum y Haring propusieron originalmente la siguiente ecuación:

Por ejemplo, si M = 1 se dice que el T.P. = 80%, es perfecto, M = 5 se dice que el T.P. = 0%, quiere decir que el proceso está controlado por la resistencia electrolítica y si M>5, entonces se asume que el T.P. da valores negativos.

Mientras que el Instituto Británico de Estándares (B.I.S) ha adaptado la siguiente definición:

Aquí, si M = 1 se dice que el T.P. = 100%, es perfecto, M = 5, T.P. = 0% y si M>5, T.P. dan valores negativos.

ANÁLISIS CINÉTICO DE ELECTROBENEFICIO Y ELECTRORREFINACIÓN DE COBRE

1.- Dibuje una celda que describa ambos procesos de EO y ER de cobre 2.- Escriba las reacciones anódicas y catódicas de dichos procesos 3.- Resumen de una cuartilla de cinética de procesos electrometalúrgicos.